Hiden TOF-qSIMS 飛行時間二次離子質譜工作站設計用于多種材料的表面分析和深度剖析應用，包括聚合物，藥物，超導體，半導體，合金，光學和功能涂層以及電介質，檢測限低于1ppm。$nTOF-qSIMS Workstation 包含了四極桿質譜和飛行時間質譜。